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Tantal-Zerstäubungsziel

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Produkt - Details


Tantal-Zerstäubungsziel

Produktbeschreibung
Artikelname
reines Tantal-Sputtertarget für die Beschichtung von dünnen Schichten
Reinheit
99,99% ~ 99,995%
Gestalten
Rundes Ziel / entsprechend Ihrer Anfrage
Verfügbare Größe
1. & Oslash; 30 bis 2000 mm, Dicke 3,0 mm bis 300 mm
2.Plate Targe: Länge: 200-500mm Breite: 100-230mm Dicke: 3--40mm
3. Customized ist verfügbar
Zertifikate
ISO9001: 2008, SGS, Der dritte Testbericht
Technik
Geschmiedet und CNC-gefräst
Oberfläche
CNC-Drehmaschine
Anwendung
1. Galvanisieren
2. Chemieingenieurwesen & Petrochemie;
3. Medizinisch


Hochreines Metall-Zerstäubungsziel
Aluminium
Al
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
3N ~ 6N
Chronium
Cr
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
2N ~ 3N5
Silber
Ag
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Platin
Pt
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Gold
Au
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Nickel
Ni
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Zinn
Sn
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 6N
Mangan
Mn
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Kobalt
Co
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
3N ~ 4N
Eisen
Fe
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
3N ~ 4N
Zink
Zn
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Zirkonium
Zr
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
2N2 ~ 4N
Titan
Ti
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Indium
Im
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Germanium
Ge
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 6N
Silizium
Si
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 6N
Kupfer
Cu
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N ~ 5N
Molybdän
Mo
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
3N ~ 4N
Niob
Nb
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
3N5
Tatalum
Ta
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
4N5
Wolfram
W
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
3N5
Hafnium
Hf
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
3N
Vanadium
V
Kugel, rundes, planares, drehbares Ziel
2N5 ~ 3N

1. Spezifikation: Wafer, kreisförmiger Kegelstumpf, Rechteck, Blech

 

2. Größe: Wafer / kreisförmiger abgestumpfter Kegel (<360 mm="" &="" times;="" th=""> 1 mm)

 

Rechteck / Blatt / stufenartige Form (L <300 mm="" ×="" w=""><300 mm="" ×="" th=""> 1 mm)

 

Rohr / Ring / drehendes Ziel (& <360 mm="" &="" times;="" th=""> 2 mm)

 

3. Reinheit:> = 99,9%

 

4. Prozess: Thermisches Spritzen

Fertigungsprozess

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Anfrage