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99,9% Titanaluminiumlegierungsziel mit hoher Reinheit 99,99% 4N TiAl Target

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Produkt - Details

99,9% hochreines Titan Aluminiumlegierungsziel 99,99% 4N TiAl-Ziel

Klasse

ELEMENTZUSAMMENSETZUNG.%

Ti

Al

V

Fe

C

N

H

O

Andere

1

Blance

_

_

0,20

0,08

0,03

0,015

0,18

0,4

2

Blance

_

_

0,30

0,08

0,03

0,015

0,25

0,4

3

Blance

_

_

0,30

0,08

0,05

0,015

0,35

0,4

5

Blance

5,5 ~ 6,75

3,5 ~ 4,5

0,40

0,08

0,05

0,015

0,20

0,4

7

Blance

Pd (0,12 ~ 0,25)

_

0,30

0,08

0,03

0,015

0,25

0,4

9

Blance

2,5 ~ 3,5

2,0 ~ 3,0

0,25

0,08

0,03

0,015

0,25

0,4

38

Blance

Al (3,5 ~ 4,5)

V (2,0 ~ 3,0)

1,2 ~ 1,8

0,08

0,03

0,015

0,2 ~ 0,3

0,4

Klasse

Zugfestigkeit (min)

Yeild Stärke (min)

Verlängerung(%)

ksi

MPa

ksi

MPa

1

35

240

20

138

24

2

50

345

40

275

20

3

65

450

55

380

18

5

130

895

120

828

10

7

50

345

40

275

20

9

90

620

70

438

fünfzehn

38

130

895

115

794

10

Produktname liefern hochreines Titan-Sputtertarget, Ti-Target
Klasse ZR702 / ZR705
Ursprung Baoji-Stadt Shaanxi-Provinzporzellan
gestalten Rundes Ziel / Plattenziel / Rohrziel
Titangehalt ≥99,8 (%)
Verunreinigungsgehalt <0,02>
Dichte 4,51 oder 4,50
Klasse ZR702 / ZR705
Rundes Ziel 60/65/70/80/85/90/95/100 (D) × 20/30/32/35/40/42/45/50 (T)
Plattenziel 60/80/120 (W) × 6/8/12 (T) × 519/525/620 (L) & 60-800 (W) × 6-40 (T) × 600-2000 (L)
Rohrziel 0,1-30,0 mm (WT) * 3-350 mm (OD) * 50-15000 mm
Anwendung

Halbleitertrennung, Filmüberzugsmaterialien, Speicherelektrodenbeschichtung, Sputterbeschichtung, Oberflächenbeschichtung, Glasbeschichtungsindustrie.

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